Saphir 560(Rubin 520)是新一代等径双盘磨抛机,它采用创新的磨抛头,工作盘直径为200-300 mm。
Rubin 520磨抛头配备了一个自动防护罩,为安全操作设定了新 标准。单点力和中心力加载、程序存储、集成的自动 加液系统及材料磨削量精确控制只是其部分功能。
带气动夹持的电动高度设置功能,结合主机的所有其他特征,saphir 550满 足最高的制样需求。磨削深度可以按照0.01 mm的精度预设,并在制样过程中全自动测量。在达到预设值时,制样过程会自动停止。
优点
带有Rubin520的双盘研磨/抛光装置
单点力和中心力控制
磨盘速度和动力头速度可调
触摸屏式的电子控制
可储存程序
动力头可顺时针/逆时针旋转
高度和侧向位置记忆功能
工作盘
Ø 200-300 mm
样品数量(单点)
1-6 samples Ø 50 mm
单点加载压力
5-100 N
中心加载压力
基于夹持器
连接电源
5.5 kVA
运行功率(基础)
2x 0.75 kW S6/40%
运行功率(研磨控制头部分)
0.17 kW S1
转速(磨抛机)
50 - 600 rpm
转速(研磨控制头部分)
30 -150 rpm
宽 x 高 x 深
1020 x 550 - 650 x 660 mm
重量
~ 110 kg
水压
1x 进水 R½" 最大 6 bars
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